半导体

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在半导体制造过程中，即使浓度低至十亿分之一量级的痕量有机污染物也会影响产品良率。我们的紫外线总有机碳清除系统可助力去除细菌、余氯及有机化合物，确保芯片制造所必需的超纯水质。
 

以精准紫外线技术提升产品良率
纳米级芯片制造对水质纯度有着极高要求。我们专用的紫外线总有机碳消除设备可提供以下保障：

  • 采用精准185纳米波长，将有机物分解至PPB级浓度
  • 提供适配芯片生产需求的超纯水质
  • 通过稳定的污染控制手段助力提升生产良率，为您提供专业的系统化技术支持。
     
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